産業技術総合研究所（産総研）は次世代のディスプレーや通信機器への応用が期待される窒化物半導体を高品質で高速に成膜できる技術を開発した。高い性能が得られる低温下で結晶を成膜できるように原料ガスの供給法を工夫した。結晶の欠陥密度を従来の100分の1以下に低減できる。ディスプレー用途で2?3…
産業技術総合研究所（産総研）は次世代のディスプレーや通信機器への応用が期待される窒化物半導体を高品質で高速に成膜できる技術を開発した。高い性能が得られる低温下で結晶を成膜できるように原料ガスの供給法を工夫した。結晶の欠陥密度を従来の100分の1以下に低減できる。ディスプレー用途で2?3…